1 適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的大氣污染物中顆粒物、二氧化硫、氮氧化物的排放限值、監(jiān)測和監(jiān)控要求，以及標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施與監(jiān)督等相關(guān)規(guī)定。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于現(xiàn)有玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的大氣污染物中顆粒物、二氧化硫、氮氧化物的排放管理。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于對玻璃工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目的環(huán)境影響評價(jià)、環(huán)境保護(hù)設(shè)施設(shè)計(jì)、竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收及其投產(chǎn)后的大氣污染物中顆粒物、二氧化硫、氮氧化物的排放管理。

本標(biāo)準(zhǔn)中未規(guī)定的內(nèi)容和要求，仍按現(xiàn)行GB 26453、GB 29495執(zhí)行。

2 規(guī)范性引用文件

本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是未注明日期的引用文件，其新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

GB 26453 平板玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

GB 29495 電子玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 15432 環(huán)境空氣 總懸浮顆粒物的測定 重量法

GB/T 16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法

HJ/T 42 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法

HJ/T 43 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ/T 55 大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術(shù)導(dǎo)則

HJ/T 56 固定污染源排氣中二氧化硫的測定 碘量法

HJ/T 397 固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ 57 固定污染源排氣中二氧化硫的測定 定電位電解法

HJ 75 固定污染源煙氣排放連續(xù)監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ 76 固定污染源煙氣（SO2、NOX、顆粒物）排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術(shù)要求及監(jiān)測方法

HJ 629 固定污染源廢氣 二氧化硫的測定 非分散紅外吸收法

HJ 692 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法

HJ 693 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 定電位電解法

HJ 836 固定污染源廢氣 低濃度顆粒物的測定 重量法

HJ 856 排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范 玻璃工業(yè)—平板玻璃

《污染源自動(dòng)監(jiān)控管理辦法》（國家環(huán)境保護(hù)總局令 第 28號）

《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》（國家環(huán)境保護(hù)總局令 第 39 號）

3 術(shù)語和定義

本標(biāo)準(zhǔn)采用下列術(shù)語和定義。

3.1

玻璃工業(yè)  glass industry

指制造平板玻璃和電子玻璃的工業(yè)。

3.2

平板玻璃  flat glass

用浮法或壓延法生產(chǎn)的板狀硅酸鹽玻璃，包括電子玻璃工業(yè)太陽能電池玻璃（薄膜太陽能電池用基板玻璃、晶體硅太陽能電池用封裝玻璃等）。

3.3

平板玻璃熔窯  flat glass furnace

熔制平板玻璃的熱工設(shè)備，由鋼結(jié)構(gòu)和耐火材料砌筑而成。

3.4

電子玻璃  electronic glass

CRT顯像管玻璃、平板顯示玻璃、電光源玻璃等應(yīng)用電子、微電子、光電子領(lǐng)域的玻璃產(chǎn)品。

3.5

電子玻璃熔爐 electronic glass furnace

熔制電子玻璃的熱工設(shè)備，包括各種型式的池爐和坩堝爐。按熱源來源，可分為使用天然氣、重油等燃料的熔爐（含電助熔）和全電熔爐。

3.6

冷修  cold repair

玻璃熔窯、熔爐?；鹄鋮s后進(jìn)行大修的過程。

3.7

純氧燃燒  oxygen-fuel combustion

助燃?xì)怏w含氧量大于等于90%的燃燒方式。

3.8

大氣污染物排放濃度  emission concentration of air pollutants

溫度273K，壓力101.3kPa狀態(tài)下，排氣筒干燥排氣中大氣污染物任何1h濃度平均值，單位為mg/m3。

3.9

排氣筒高度  stack height

自排氣筒（或其主體建筑構(gòu)造）所在的地平面至排氣筒出口計(jì)的高度，單位為m。

3.10

無組織排放  fugitive emission

大氣污染物不經(jīng)過排氣筒的無規(guī)則排放，主要包括作業(yè)場所物料堆放、開放式輸送揚(yáng)塵，以及設(shè)備、管線含塵氣體泄漏等。

3.11

無組織排放監(jiān)控點(diǎn)濃度限值  concentration limit at fugitive emission reference point

溫度273K，壓力101.3kPa狀態(tài)下，監(jiān)控點(diǎn)（根據(jù)HJ/T 55確定）的大氣污染物濃度在任何1h的平均值不得超過的值，單位為mg/m3。

3.12

現(xiàn)有企業(yè)  existing facility

本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價(jià)文件已通過審批的玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施。

3.13

新建企業(yè)  new facility

自本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起環(huán)境影響評價(jià)文件通過審批的新建、改建和擴(kuò)建玻璃工業(yè)建設(shè)項(xiàng)目。